設備生產有條不紊、機臺調試精益求精、技術迭代有序展開……當下，中國電科所屬爍科中科信正同步生產調試13臺離子注入機，設備制造與工藝調試雙管齊下，生產一線熱火朝天。

　　離子注入機是芯片制造的關鍵裝備。目前，爍科中科信自主研制出中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等多類型離子注入機，實現了我國芯片制造領域全系列離子注入機創新發展。2023年開年，設備訂單總額突破2億元，行業認可度持續攀升。

　　“離子注入機具有專業性強、涉及學科多、精密化程度高等特點，研制難度極高?！奔夹g人員回憶研發過程，依然動容。

　　兩萬五千多個硬件7×24小時密切配合，軟件系統高速運轉，要讓束流時刻保持在特定的高能量，精準地注入到硅片的指定區域，不能有一絲卡頓……這只是高能離子注入機工程化的“基礎套餐”。

　　要實現這些極端嚴苛要求，需要一個關卡接一個關卡地闖。其中就有將高能量束流均一性指標提高0.5%。

　　千萬別小看這0.5%的改變！它需要項目團隊不眠不休地與影響均一性的5項關鍵指標“死磕”，修改5000多次程序。每次從實驗室出來，技術人員在無塵服的包裹下都汗流浹背，來不及擦拭，就又奔向辦公室，總結實驗數據。

　　最終，項目組如愿實現技術指標，又接連突破高能離子加速技術等核心技術難關，各項工藝指標均達要求。目前，高能離子注入機已進入產線工藝驗證的最后階段。

　　技術突破是多方面的。高溫注入工藝的成功研發是另一個標志性成果。

　　為推進研發進度，項目組扎根實驗室，將原理創新與局部驗證相結合，對整個溫控流程進行數十次仿真驗證，最終實現在高溫時，設備仍能對晶圓均勻吸附，且能夠保障高效穩定傳輸的目標。同時，為了保障獲取更加精準的工藝參數，測試人員在高溫設備旁對幾十道加熱工藝進行上百次測試實驗，為快速推算工藝參數提供了可靠的數據支撐。

　　功夫不負有心人，事關實驗成功與否的一組關鍵參數從開始的偏離理想值，到逐漸無限接近，直至通過嚴密論證，達到高溫注入的工藝要求，實現控制精度和作業速度的雙贏。

　　目前，技術提升在系列產品中遍地開花，中束流設備模組交付形式已步入正軌，大束流設備已實現與國際先進機臺對標，大幅提升產品的市場核心競爭力。

　　“發展國產裝備，鑄就國芯基石?！表椖拷M夢想不停步，繼續勇攀工藝制程新高度，提高設備生產效率，帶動產業鏈發展。