



設備生產有條不紊、機臺調試精益求精、技術迭代有序展開……當下,中國電科所屬爍科中科信正同步生產調試13臺離子注入機,設備制造與工藝調試雙管齊下,生產一線熱火朝天。
離子注入機是芯片制造的關鍵裝備。目前,爍科中科信自主研制出中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等多類型離子注入機,實現了我國芯片制造領域全系列離子注入機創新發展。2023年開年,設備訂單總額突破2億元,行業認可度持續攀升。
“離子注入機具有專業性強、涉及學科多、精密化程度高等特點,研制難度極高?!奔夹g人員回憶研發過程,依然動容。
兩萬五千多個硬件7×24小時密切配合,軟件系統高速運轉,要讓束流時刻保持在特定的高能量,精準地注入到硅片的指定區域,不能有一絲卡頓……這只是高能離子注入機工程化的“基礎套餐”。
要實現這些極端嚴苛要求,需要一個關卡接一個關卡地闖。其中就有將高能量束流均一性指標提高0.5%。
千萬別小看這0.5%的改變!它需要項目團隊不眠不休地與影響均一性的5項關鍵指標“死磕”,修改5000多次程序。每次從實驗室出來,技術人員在無塵服的包裹下都汗流浹背,來不及擦拭,就又奔向辦公室,總結實驗數據。
最終,項目組如愿實現技術指標,又接連突破高能離子加速技術等核心技術難關,各項工藝指標均達要求。目前,高能離子注入機已進入產線工藝驗證的最后階段。
技術突破是多方面的。高溫注入工藝的成功研發是另一個標志性成果。
為推進研發進度,項目組扎根實驗室,將原理創新與局部驗證相結合,對整個溫控流程進行數十次仿真驗證,最終實現在高溫時,設備仍能對晶圓均勻吸附,且能夠保障高效穩定傳輸的目標。同時,為了保障獲取更加精準的工藝參數,測試人員在高溫設備旁對幾十道加熱工藝進行上百次測試實驗,為快速推算工藝參數提供了可靠的數據支撐。
功夫不負有心人,事關實驗成功與否的一組關鍵參數從開始的偏離理想值,到逐漸無限接近,直至通過嚴密論證,達到高溫注入的工藝要求,實現控制精度和作業速度的雙贏。
目前,技術提升在系列產品中遍地開花,中束流設備模組交付形式已步入正軌,大束流設備已實現與國際先進機臺對標,大幅提升產品的市場核心競爭力。
“發展國產裝備,鑄就國芯基石?!表椖拷M夢想不停步,繼續勇攀工藝制程新高度,提高設備生產效率,帶動產業鏈發展。